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第230章180纳米良率大增（第3页）

良率92%，成本降12%，全部达標。”

电话那头没有立刻回应。

周国明能听到听筒里传来轻微的呼吸声，陈启文说了一句：

“辛苦了，我明天到新竹。”

3月16日，新竹启文半导体晶圆厂。

陈启文从车上下来的时候，林本健已经在厂区门口等了。

新竹三月的风还带著凉意，但林本健只穿了一件白衬衫，袖口卷到小臂。

脸上带著一种少见的兴奋。

“陈总，先看180nm產线。”林本健没有寒暄，直接带著陈启文往洁净室的方向走。

两人换上无尘服，穿过两道风淋门，走进洁净室。

眼前的景象和周国明上次带陈启文来看，第三代四合一套片產线时完全不同。

首批五台asml180nm光刻机全部到位，一字排开，每台机器都在全速运转。

机械臂將一片片八英寸晶圆送入光刻机，曝光、显影、蚀刻……

每一个步骤都在纳米级的精度下完成。

洁净室里的工程师们，在各个检测台之间穿梭，屏幕上滚动著实时的良率和產能数据。

“这条產线的良率目前稳定在85%以上，比原计划高了5个百分点。”

林本健指著其中一台光刻机上的铭牌：asml，pas5500，2004年1月交付。

“浸润式专利换来的设备优先供货权，让我们比台基电的其他客户，提前了至少半年拿到这批机器。

asml那边的排產优先级，我们和台积电完全持平。”

“台基电知道吗？”

“半导体圈子没什么秘密。

他肯定知道。

张中谋的情报系统不是吃素的。”

林本健笑道：“但他知道也没用。

我们的专利授权协议，是法律层面的保障。

更是asml所渴望，不可能为一个客户的施压，放弃和我们的合作。

更何况，我们现在是asml在亚太地区除了台基电之外最大的客户。”